[ 來源：　|　作者：本站　|　發(fā)布時間：2023-09-11 |　瀏覽：15804次 ]

由于鉬具有高熔點、高電導率、較低的比阻抗以及較好的耐腐蝕性和環(huán)保性等特色，所以鉬靶材被廣泛應用于電子行業(yè)，例如平面顯示器、薄膜太陽能電池的電極和配線資料，現(xiàn)在就讓北京瑞弛的小編和大家一起了解一下關于鎢鉬制品中鉬靶材特點都有哪些?

1、高純度鉬靶材

鉬靶材的純度越高，濺射薄膜的性能越好。一般鉬濺射靶材的純度至少需求達到99.95%。但隨著LCD行業(yè)玻璃基板尺度的不斷進步，要求配線的長度延伸、線寬變細，為了確保薄膜的均勻性以及布線的質量，對鉬濺射靶材的純度的要求也相應進步。因而，根據(jù)濺射的玻璃基板的尺度以及運用環(huán)境，鉬濺射靶材的純度要求在99.99%-99.999%甚至更高。

2、高致密度鉬靶材

濺射鍍膜的過程中，致密度較小的濺射靶受炮擊時，由于靶材內部孔隙內存在的氣體突然開釋，形成大尺度的靶材顆?；蛭⒘ｏw濺，或成膜之后膜材受二次電子炮擊形成微粒飛濺，這些微粒的出現(xiàn)會降低薄膜質量。為了削減靶材固體中的氣孔，進步薄膜性能，一般要求濺射靶材具有較高的致密度。對鉬濺射靶材而言，其相對密度應該在98%以上。

3、晶粒尺度

一般鉬濺射靶材為多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級。試驗研討標明，細微尺度晶粒靶的濺射速率要比粗晶粒快，而晶粒尺度相差較小的靶，淀積薄膜的厚度散布也較均勻。

4、結晶方向

由于濺射時靶材原子簡單沿原子六方嚴密排列方向擇優(yōu)濺射出來，因而，為達到濺射速率，常通過改變靶材結晶結構的方法來增加濺射速率。靶材的結晶方向對濺射膜層的厚度均勻性影響也較大。因而，獲得-必定結晶取向的靶材結構對薄膜的濺射過程至關重要。

5、導熱導電

鎢鉬制品廠家告訴大家，一般鉬濺射靶材濺射前有必要與無氧銅(或鋁等其他資料)底盤銜接在一起，使濺射過程中靶材與底盤的導熱導電狀況良好。綁定后有必要通過超聲波查驗，確保兩者的不結合區(qū)域小于2%,這樣才干滿足大功率濺射要求而不致掉落。

6、鉬靶材性能

純度：純鉬≥99.95%，高溫鉬≥99%(增加稀土元素)

密度：≥10.2g/cm3

熔點：2610℃

規(guī)格：圓形靶，板靶，旋轉靶

適用環(huán)境：真空環(huán)境或惰性氣體保護環(huán)境，鎢鉬制品中的純鉬較高，耐高溫1200度，鉬合金較高耐高溫1700度。